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美国半导体工业用纯水指标
美国半导体工业用纯水指标
  化学指标单位:μg/L
项 目
Ⅰ级
Ⅱ级
Ⅲ级
Ⅳ级
残渣,mg/L
0.1
0.3
0.3
0.5
TOC,mg/L
0.02
0.05
0.10
0.40
颗粒,粒/L
500
1000
2500
5000
细菌数,个100mL
0
6
10
50
活性硅SiO2,μg/L
3
5
10
40
电阻率MΩ·cm
18.3
17.9
17.5
17.0
阳离子,μg/L
0.2
2.0
5.0
*
铝 Al3+
0.2
2.0
5.0
*
铵 NH4+
0.3
0.3
0.5
*
铬 Cr6+
0.02
0.1
0.5
*
铁 Fe 3+
0.02
0.1
0.2
*
铜 Cu 2+
0.02
0.1
0.5
*
锰 Mn 2+
0.05
0.5
1.0
*
钾 K +
0.1
0.3
1.0
4.0
钠 Na +
0.05
0.2
1.0
5.0
锌 Zn 2+
0.03
0.1
0.5
*
阴离子,μg/L
0.1
0.1
0.3
*
溴 Br -
0.1
0.1
0.3
*
氯 Cl -
0.05
0.2
0.8
*
亚硝酸根 NO2-
0.05
0.1
0.3
*
硝酸根 NO3-
0.1
0.1
0.5
*
磷酸根 PO43-
0.2
0.2
0.3
*
硫酸根 SO42-
0.05
0.3
1.0
*
*此值未定。

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